磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，相比于蒸發(fā)鍍膜方式，其在很多方面有相當(dāng)明顯的優(yōu)勢。作為一項(xiàng)已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術(shù)，磁控濺射已經(jīng)被應(yīng)用于許多領(lǐng)域。
什么是“磁控濺射靶材”，磁控濺射靶材的分類有哪些，磁控濺射靶材主要應(yīng)用在哪些行業(yè)領(lǐng)域呢？下面啟睿新材料為您分別解答講述。
磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬，合金，陶瓷，硼化物等。濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。隨著科技的不斷進(jìn)步，顯示屏被運(yùn)用到越來越多的領(lǐng)域，如在通訊設(shè)施、家電、辦公用品等領(lǐng)域。我公司針對各個(gè)領(lǐng)域?qū)︼@示屏的分辨率、透明性能等特性的不同需求，提供各類濺射靶材。憑借著數(shù)年的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，啟睿新材料能夠提供高純金屬、合金及陶瓷類濺射靶材，并能夠滿足各個(gè)顯示領(lǐng)域，如LCD、PDP、OLED、觸摸屏等在靶材規(guī)格方面的特殊需求。
當(dāng)你在智能手機(jī)或平板電腦，用手指輕輕一劃，就會(huì)出現(xiàn)各種頁面，這就是屏幕上一種透明導(dǎo)電薄膜的功勞。
本期啟睿新材料的小編就帶你認(rèn)識(shí)用于生產(chǎn)透明導(dǎo)電薄膜的磁控濺射靶材。它是眾多濺射靶材中發(fā)展最為迅速且應(yīng)用較廣的一種靶材，目前廣泛應(yīng)用于平板顯示、節(jié)能低輻射玻璃、LED、半導(dǎo)體元器件等行業(yè)。
根據(jù)材料的成分不同，靶材可分為金屬靶材、合金靶材、無機(jī)非金屬靶材等。其中無機(jī)非金屬靶材又可分為氧化物、硅化物、氮化物和氟化物等不同種類靶材。
根據(jù)幾何形狀的不同，靶材可分為長（正）方體形靶材、圓柱體靶材和不規(guī)則形狀靶材；此外，靶材還可以分為實(shí)心和空心兩種類型靶材。
目前靶材最常用的分類方法是根據(jù)靶材應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行劃分，主要包括半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用靶材、記錄介質(zhì)應(yīng)用靶材、顯示薄膜應(yīng)用靶材、光學(xué)靶材、超導(dǎo)靶材等。
其中半導(dǎo)體領(lǐng)域用靶材、記錄介質(zhì)用靶材和顯示靶材是市場需求規(guī)模最大的三類靶材。
磁控濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息儲(chǔ)存、液晶存儲(chǔ)、液晶顯示器、電子控制器件等，亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域，還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、化學(xué)電鍍、金屬泡沫材料、高檔裝飾用品等行業(yè)。
2.1信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)
在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，使用濺射靶材制備的相關(guān)薄膜產(chǎn)品有硬盤、磁頭、光盤（CD-R，CD，DVD）、磁光相變光盤（MO，C-RW,DVD-KAM）。
2.2集成電路產(chǎn)業(yè)
集成電路用靶材在全球靶材市場中占較大份額。其濺射產(chǎn)品主要包括電極互相連線膜、阻擋層薄膜、接觸薄膜、光盤掩膜、電容器電極膜、電阻薄膜等。
2.3平面顯示器產(chǎn)業(yè)
平面顯示器包括：液晶顯示器（LCD）、等離子體顯示器（PDP）、場致發(fā)光顯示器（E-L）、場發(fā)射顯示器（PED）。目前，在平面顯示器市場中以液晶顯示器LCD市場最大,份額高達(dá)80%。
2.4光學(xué)薄膜行業(yè)
玻璃鍍膜采用的靶材主要有：In2O3、SnO2、Co-Cr、Cu、Cr、Ni、Sn等。汽車后鏡用靶材主要有：Cr、Al、SnO2、TiO2等。
磁控濺射靶材的制備技術(shù)方法按生產(chǎn)工藝可分為熔融鑄造法和粉末冶金法兩大類，在靶材的制備過程中，除嚴(yán)格控制材料的純度、致密度、晶粒度以及結(jié)晶取向之外，對熱處理工藝條件、后續(xù)成型加工過程亦需要加以嚴(yán)格的控制，以保證靶材的質(zhì)量。
3.1熔融鑄造法
與粉末冶金法相比，熔融鑄造法生產(chǎn)的靶材產(chǎn)品雜質(zhì)含量低，致密度高。
3.2粉末冶金法
通常，熔融鑄造法無法實(shí)現(xiàn)難熔金屬濺射靶材的制備，對于熔點(diǎn)和密度相差較大的兩種或兩種以上的金屬，采用普通的熔融鑄造法，一般也難以獲得成分均勻的合金靶材；
對于無機(jī)非金屬靶材、復(fù)合靶材，熔融鑄造法更是無能為力，而粉末冶金法是解決制備上述靶材技術(shù)難題的最佳途徑。同時(shí)，粉末冶金工藝還具有容易獲得均勻細(xì)晶結(jié)構(gòu)、節(jié)約原材料、生產(chǎn)效率高等優(yōu)點(diǎn)。
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