純度:99.5%~99.95%;
成型工藝:熱等靜壓;
常規(guī)尺寸:ID55*OD70*L,ID125*OD153*L , φ100*40mm,φ150*30mm,φ155*30,φ80*40mm等等;
用途:裝飾鍍膜,工具鍍膜,平面顯示鍍膜,薄膜太陽能工業(yè),平板顯示工業(yè),節(jié)能玻璃工業(yè),光學鍍膜工業(yè)(如汽車后視鏡鍍膜)等。
鉻靶Chromium target | 性能Product performance | ||
---|---|---|---|
純度/% Purity |
99.5 | 99.95 | |
密度/g/cm3 Density |
≥7.12 | ≥7.12 | |
晶粒度/μm Grain size |
≤100 | ≤100 | |
金屬雜質(zhì)總和/ppm Total content of metallic impurities |
≤5000 | ≤500 | |
熱導率/W/m.K Thermal conductivity |
60 | 100 | |
熱膨脹系數(shù)/1/K Coefficient of thermal expansion |
8×10-6 | 8×10-6 | |
規(guī)格尺寸/mm Size |
平面靶 Planar target |
≤1600×500 | ≤1600×500 |
旋轉(zhuǎn)靶 Rotating target |
熱等靜壓整體成形 Integral formingby HIP 長度Length≤4000 厚度Thickness≤15 |
熱等靜壓整體成形 Integral formingby HIP 長度Length≤4000 厚度Thickness≤15 |
成分 | 鐵(Fe) | 鋁(Al) | 硅(Si) | 碳(C) | 硫(S) | 氧(O) | 氮(N) |
---|---|---|---|---|---|---|---|
標準(Standard) | ≤1500 | ≤1200 | ≤1500 | ≤200 | ≤50 | ≤1400 | ≤300 |
測試值(Test values) | 980 | 300 | 600 | 62 | 50 | 1200 | 200 |
成分 | 鐵(Fe) | 鋁(Al) | 硅(Si) | 碳(C) | 硫(S) | 氧(O) | 氮(N) |
---|---|---|---|---|---|---|---|
標準(Standard) | ≤800 | ≤300 | ≤400 | ≤200 | ≤50 | ≤1000 | ≤100 |
測試值(Test values) | 740 | 78 | 92 | 84 | 50 | 340 | 30 |
成分 | 鐵(Fe) | 鋁(Al) | 硅(Si) | 碳(C) | 硫(S) | 氧(O) | 氮(N) |
---|---|---|---|---|---|---|---|
標準(Standard) | ≤500 | ≤100 | ≤150 | ≤150 | ≤30 | ≤500 | ≤100 |
測試值(Test values) | 290 | 47 | 80 | 90 | 28 | 450 | 50 |
成分 | 鐵(Fe) | 鋁(Al) | 硅(Si) | 銅(Cu) | 鎳(Ni) | 碳(C) | 硫(S) | 氧(O) | 氮(N) |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
標準(Standard) | ≤100 | ≤50 | ≤50 | ≤10 | ≤50 | ≤50 | ≤30 | ≤150 | ≤80 |
測試值(Test values) | 50 | 45 | 40 | 7 | 10 | 24 | 27 | 137 | 30 |
鉻旋轉(zhuǎn)靶材、鉻管靶
鉻管靶可加工成熱等靜壓(HIP)整體成型鉻管靶和噴涂鉻管靶,兩種鉻管靶相比,熱等靜壓整體成型鉻管靶具有氧含量低、致密度高、鍍膜均勻致密質(zhì)量好等優(yōu)點,缺點成本較高。
熱等靜壓鉻管靶
純度:99.8%
工藝:熱等靜壓一體成型高純鉻靶
常用規(guī)格:高純鉻管靶,高純鉻環(huán)靶,長度500~2000mm,直徑:70-155mm,管厚:3-10mm,按您的要求定做。
相對于傳統(tǒng)等離子噴涂,熱等靜壓管靶單邊更加厚,使用壽命更長是,傳統(tǒng)噴涂靶3倍,含氧量更低。
噴涂鉻管靶
成型工藝:熱等靜壓、噴涂
用途:工具鍍膜、裝飾鍍膜、建筑玻璃鍍膜
常規(guī)尺寸:ID125xOD145~155xL (mm)
性能 |
噴涂鉻管靶材 |
熱等靜壓整體成形鉻管靶材 |
---|---|---|
氧含量/ppm |
≤5000 |
80-1500 |
鍍膜均勻性 Deposition uniformity |
1. 整管軸向致密度相差較大 2. 整爐上中下L、A、B值相差較大 3. 無法保證產(chǎn)品膜層的一致性 |
1. 整管均勻性高 2. 密度接近于純金屬熱擠壓密度,管材通體密度一致 3. 無松散區(qū)、無暗區(qū) 4. PVD膜層的厚度及顏色的一致性好 5. 整爐上中下L、A、B值統(tǒng)一性好 |
鍍膜電流密度 |
無法實現(xiàn)大電流長時間工作 |
大功率長時間穩(wěn)定工作 |