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純金屬單質(zhì)靶材

鉻靶材

產(chǎn)品簡述:

我司提供的鉻靶材采用先進的熱等靜壓(HIP)工藝生產(chǎn),產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶、環(huán)形靶和大長徑比整體成形管靶等類型,具有純度和密度可控、晶粒細小均勻、使用壽命長等優(yōu)點。

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產(chǎn)品詳細
我司提供的鉻靶材采用先進的熱等靜壓(HIP)工藝生產(chǎn),產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶、環(huán)形靶和大長徑比整體成形管靶等類型,具有純度和密度可控、晶粒細小均勻、使用壽命長等優(yōu)點。

純度:99.5%~99.95%

成型工藝:熱等靜壓;

常規(guī)尺寸:ID55*OD70*L,ID125*OD153*L , φ100*40mm,φ150*30mmφ155*30,φ80*40mm等等;

用途:裝飾鍍膜,工具鍍膜,平面顯示鍍膜,薄膜太陽能工業(yè),平板顯示工業(yè),節(jié)能玻璃工業(yè),光學鍍膜工業(yè)(如汽車后視鏡鍍膜)等。

 
鉻靶Chromium target 性能Product performance
純度/%
Purity
      99.5 99.95
密度/g/cm3
Density
       ≥7.12 ≥7.12
晶粒度/μm
Grain size
       ≤100 ≤100
金屬雜質(zhì)總和/ppm
Total content of metallic impurities
        ≤5000 ≤500
熱導率/W/m.K
Thermal conductivity
       60 100
熱膨脹系數(shù)/1/K
Coefficient of thermal expansion
         8×10-6 8×10-6
規(guī)格尺寸/mm
Size
平面靶
Planar target
≤1600×500 ≤1600×500
旋轉(zhuǎn)靶
Rotating target
熱等靜壓整體成形
Integral formingby HIP
長度Length≤4000
厚度Thickness≤15
熱等靜壓整體成形
Integral formingby HIP
長度Length≤4000
厚度Thickness≤15

2N5   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3
成分 鐵(Fe) 鋁(Al) 硅(Si) 碳(C) 硫(S) 氧(O) 氮(N)
標準(Standard) ≤1500 ≤1200 ≤1500 ≤200 ≤50 ≤1400 ≤300
測試值(Test values) 980 300 600 62 50 1200 200
 
 
2N8   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3
成分 鐵(Fe) 鋁(Al) 硅(Si) 碳(C) 硫(S) 氧(O) 氮(N)
標準(Standard) ≤800 ≤300 ≤400 ≤200 ≤50 ≤1000 ≤100
測試值(Test values) 740 78 92 84 50 340 30
 
 
3N   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3
成分 鐵(Fe) 鋁(Al) 硅(Si) 碳(C) 硫(S) 氧(O) 氮(N)
標準(Standard) ≤500 ≤100 ≤150 ≤150 ≤30 ≤500 ≤100
測試值(Test values) 290 47 80 90 28 450 50
 
3N5   微量元素(Trace elements)PPM   ≥7.12g/cm3
成分 鐵(Fe) 鋁(Al) 硅(Si) 銅(Cu) 鎳(Ni) 碳(C) 硫(S) 氧(O) 氮(N)
標準(Standard) ≤100 ≤50 ≤50 ≤10 ≤50 ≤50 ≤30 ≤150 ≤80
測試值(Test values) 50 45 40 7 10 24 27 137 30
 
高純鉻顆粒:常用粒度有:1-3mm,3-5mm,40目,-20-300目,40#,60#,80#,200#等用于蒸發(fā)鍍膜,純度高,蒸鍍效果好




鉻旋轉(zhuǎn)靶材、鉻管靶

鉻管靶可加工成熱等靜壓(HIP)整體成型鉻管靶和噴涂鉻管靶,兩種鉻管靶相比,熱等靜壓整體成型鉻管靶具有氧含量低、致密度高、鍍膜均勻致密質(zhì)量好等優(yōu)點,缺點成本較高。

 

熱等靜壓鉻管靶

純度:99.8%

工藝:熱等靜壓一體成型高純鉻靶

常用規(guī)格:高純鉻管靶,高純鉻環(huán)靶,長度500~2000mm,直徑:70-155mm,管厚:3-10mm,按您的要求定做。

相對于傳統(tǒng)等離子噴涂,熱等靜壓管靶單邊更加厚,使用壽命更長是,傳統(tǒng)噴涂靶3倍,含氧量更低。

 

噴涂鉻管靶

成型工藝:熱等靜壓、噴涂

用途:工具鍍膜、裝飾鍍膜、建筑玻璃鍍膜

常規(guī)尺寸:ID125xOD145~155xL mm

 

 

性能

噴涂鉻管靶材

熱等靜壓整體成形鉻管靶材

氧含量/ppm

5000

80-1500

鍍膜均勻性

Deposition uniformity

1.     整管軸向致密度相差較大

2.     整爐上中下LA、B值相差較大

3.     無法保證產(chǎn)品膜層的一致性

1.     整管均勻性高

2.     密度接近于純金屬熱擠壓密度,管材通體密度一致

3.     無松散區(qū)、無暗區(qū)

4.     PVD膜層的厚度及顏色的一致性好

5.     整爐上中下L、AB值統(tǒng)一性好

鍍膜電流密度

無法實現(xiàn)大電流長時間工作

大功率長時間穩(wěn)定工作

 

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