純度：99.7%-99.999%（如2N8，2N6，4N，5N）
牌號(hào)： TA1，TA2，TA3，TC4(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5( Ti6AL4V)
鈦圓靶 ：技術(shù)條件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97
鈦板靶 ：技術(shù)條件：符合GB/T3621-94，ASTM B265-93
用途：用于半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲(chǔ)存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層、玻璃鍍膜工業(yè)、薄膜太陽能工業(yè)、節(jié)能玻璃工業(yè)、光學(xué)鍍膜工業(yè)、工具及裝飾鍍膜工業(yè)等。
常規(guī)尺寸規(guī)格：
圓靶：常用規(guī)格：直徑60/65/95/100*厚30/32/40/45mm
板靶：(8-25)mm * (150-400) mm * (1000-2500)mm
鈦旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝，可生產(chǎn)最大長度4000mm，厚度根據(jù)客戶要求定制。
鈦平面靶采用真空熔煉工藝，可生產(chǎn)最大長度2500mm，最大寬度400mm，尺寸可根據(jù)客戶要求加工。
性能標(biāo)準(zhǔn)
化學(xué)成分符合 GB/T 3621-2007，GB/T 2965-2007，GB/T 3625-2007 等標(biāo)準(zhǔn)。
標(biāo)準(zhǔn)值
|
化學(xué)成分參考標(biāo)準(zhǔn) |
|||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
牌號(hào) |
Al |
V |
N≤ |
C≤ |
H≤ |
Fe≤ |
O≤ |
其他元素（單一） |
其他元素（總和） |
|
TA1 |
|
|
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.20 |
0.18 |
0.1 |
0.40 |
|
TA2 |
|
|
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.30 |
0.25 |
0.1 |
0.40 |
|
TC4 |
5.5-6.75 |
3.5-4.5 |
0.05 |
0.08 |
0.015 |
0.30 |
0.20 |
0.1 |
0.40 |
|
機(jī)械性能參考標(biāo)準(zhǔn) |
||||
|---|---|---|---|---|
|
牌號(hào) |
室溫下力學(xué)性能，不小于 |
|||
|
抗拉強(qiáng)度 |
屈服強(qiáng)度 |
伸長率 |
斷面收縮率 |
|
|
TA1 |
240 MPa |
170MPa |
25% |
30% |
|
TA2 |
345MPa |
275 MPa |
20% |
30% |
|
TC4 |
895MPa |
825 MPa |
10% |
20% |
其它靶材：
|
產(chǎn)品名稱 |
化學(xué)符號(hào) |
含量 |
性質(zhì) |
|---|---|---|---|
|
鈦濺射靶材 |
Ti |
2N6,4N,5N |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鎳濺射靶材 |
Ni |
2N5, 3N |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鋯濺射靶材 |
Zr |
2N5 |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鎢濺射靶材 |
W |
3N5 |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鉬濺射靶材 |
Mo |
3N5 |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鉭濺射靶材 |
Ta |
3N5, 4N |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鈮濺射靶材 |
Nb |
3N5, 4N |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
銅濺射靶材 |
Cu |
3N8 |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鋁濺射靶材 |
Al |
4N |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鈦鋁合金濺射靶材 |
Ti + Al |
2N7 |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鉬鈮合金濺射靶材 |
Mo+Nb |
3N5 |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鎢鉬合金濺射靶材 |
W+Mo |
3N5 |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鈮鎢合金濺射靶材 |
Nb521 |
3N5 |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鈮鈦合金濺射靶材 |
Nb+Ti |
2N5 |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
|
鈮鋯合金濺射靶材 |
Nb+Ti |
2N5 |
平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
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