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純度：99.95-99.9995%；
鋁旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝，可生產(chǎn)最大長度4000mm，厚度根據(jù)客戶要求定制。
鋁平面靶采用真空熔煉工藝，可生產(chǎn)最大長度2500mm，最大寬度400mm，尺寸可根據(jù)客戶要求加工。
應(yīng)用領(lǐng)域：薄膜太陽能工業(yè)，低輻射玻璃工業(yè)，平板顯示工業(yè)，光學(xué)鍍膜工業(yè)，工具及裝飾鍍膜工業(yè)。

名  稱：高純鋁靶、鋁顆粒、鋁管靶			熔  點：660.4℃
符  號：Al			沸  點：2519℃
原子量：26.98			密  度：2.70g/cm3
純  度：3N 4N 5N 5N5
產(chǎn)品名稱	狀態(tài)	純度	尺寸	包裝
高純鋁	靶材	5N 5N5	1-10英寸，可定制	片
高純鋁	顆粒	5N 5N5 6N	φ3*3mm，φ6*6mm	100g
高純鋁	絲狀	5N 5N5	φ0.1-5mm	100g
高純鋁	片狀	5N 5N5	0.03-10mm	1kg
產(chǎn)品優(yōu)點	不純物元素含量極低，導(dǎo)電性能好，光反射性能好，延展性好，耐腐蝕性能優(yōu)良。
產(chǎn)品用途	芯片制造用靶材，先進(jìn)封裝用靶材。
產(chǎn)品附件	報價單/訂購合同/裝箱單/質(zhì)檢單/發(fā)票
產(chǎn)品包裝	真空包裝/真空中性包裝/特殊包裝外加固包裝
制作工藝	通過控制晶粒的生長形態(tài)的偏析法提純工藝，用于高純鋁，超高純鋁的提純。
適用儀器	多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備