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純金屬單質(zhì)靶材

鋁靶材

產(chǎn)品簡述:

純度:99.95-99.9995%; 鋁旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝,可生產(chǎn)最大長度4000mm,厚度根據(jù)客戶要求定制。 鋁平面靶采用真空熔煉工藝,可生產(chǎn)最大長度2500mm,最大寬度400mm,尺寸可根據(jù)客戶要

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產(chǎn)品詳細(xì)
純度:99.95-99.9995%;
鋁旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝,可生產(chǎn)最大長度4000mm,厚度根據(jù)客戶要求定制。
鋁平面靶采用真空熔煉工藝,可生產(chǎn)最大長度2500mm,最大寬度400mm,尺寸可根據(jù)客戶要求加工。
應(yīng)用領(lǐng)域:薄膜太陽能工業(yè),低輻射玻璃工業(yè),平板顯示工業(yè),光學(xué)鍍膜工業(yè),工具及裝飾鍍膜工業(yè)。
名  稱:高純鋁靶、鋁顆粒、鋁管靶 熔  點:660.4℃
符  號:Al 沸  點:2519℃                      
原子量:26.98 密  度:2.70g/cm3
純  度:3N 4N 5N 5N5  
產(chǎn)品名稱 狀態(tài) 純度 尺寸 包裝
高純鋁 靶材 5N 5N5 1-10英寸,可定制
高純鋁 顆粒 5N 5N5 6N φ3*3mm,φ6*6mm 100g
高純鋁 絲狀 5N 5N5 φ0.1-5mm 100g
高純鋁 片狀 5N 5N5 0.03-10mm 1kg
產(chǎn)品優(yōu)點 不純物元素含量極低,導(dǎo)電性能好,光反射性能好,延展性好,耐腐蝕性能優(yōu)良。
產(chǎn)品用途 芯片制造用靶材,先進(jìn)封裝用靶材。
產(chǎn)品附件 報價單/訂購合同/裝箱單/質(zhì)檢單/發(fā)票
產(chǎn)品包裝 真空包裝/真空中性包裝/特殊包裝外加固包裝
制作工藝 通過控制晶粒的生長形態(tài)的偏析法提純工藝,用于高純鋁,超高純鋁的提純。
適用儀器 多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備
 
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